第一五一零章 半导体衰退周期是否结束

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受ASmL、canon和SVG研制成功90nm光刻机的影响，降价30%的GcA和Nikon去年上半年没有卖出一条90nm制程工艺的半导体生产线。

去年8月15日，由于京城半导体公司（bSEc）研发成功90nm光刻机，刺激了台积电和三星晶圆公司，台积电斥资15亿美元向GcA订购了一条90nm制程工艺的半导体生产线；三星晶圆公司向ASmL定购了一条90nm制程工艺的半导体生产线。

GcA从台积电拿到15亿美元的生产订单，还从pGcA半导体公司拿到4.5亿美元、出口10台90nm光刻机和20台180nm光刻机的生产订单，虽然还有20%的员工轮岗，但GcA渡过这轮半导体衰退周期已经不成问题。

按照半导体周期理论，全球半导体产业跌至谷底，优胜劣汰，接下来的3年左右就是繁荣周期。

由于全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了，5年过去，还没有看到被突破的迹象，GcA和Nikon无法研发成功65nm光刻机，90nm光刻机的更新换代停滞，Intel第八代cpU的研发也被迫停止。

Amd研发成功挑战pentium 4（第七代cpU）的Athlon xp（速龙 xp）已于去年10月上市，对pentium 4的市场地位造成了极大的冲击。

GcA今年也很难拿到新的90nm光刻机订单。

即使遭遇半导体衰退周期，美西方国家的90nm光刻机没有销路，也不准出口中G市场，孙健再有钱也买不到90nm光刻机。

这也是bSEc追赶GcA和Nikon、国智cpU研究所追赶Intel和Amd的历史机遇，不然即使投入巨资也很难赶上。

孙健制定的策略是紧跟，不是超越，美国第一。

ASmL研发成功65nm浸没式光刻机之前，孙健不会让bSEc研发成功的65nm浸没式光刻机面世。

一旦bSEc光刻机超过GcA，就会被美国商务部认定国家安全遭受威胁，被制裁跑不了，孙健也不敢出国了。

bSEc研制成功的90nm光刻机是为了生产GZ-cx4准备的，按照9个月的建设周期，pGcA半导体公司到2002年6月才能实现量产。

陈永清院士率领国智cpU研究所台式机cpU研发部的600多名研发人员，投资6亿元，经过一年半的研发，GZ-cx4的研发已经到了收尾阶段，由于没有90nm制程工艺的半导体生产线，孙健指示密而不发，避免刺激美国。

参照pentium 4，GZ-cx4内部改成集成4800万个晶体管，运行速度1.6Ghz，最大存储容量8tb，采用90nm制程工艺，赶超pentium 4。

bSEc去年8月15日研制成功90nm光刻机后，去年9月1日，美国商务部解除了90nm光刻机对中G的出口限制。

GcA和Nikon早在1999年就研制成功90nm光刻机，由于全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了，不然GcA早就研制成功45nm光刻机了，遥遥领先。

孙健将一条90nm制程工艺半导体生产线中一半的光刻机订单交给了GcA，美国商务部没有找bSEc的麻烦。